이온 빔 소스 (Hyperion Ⅱ )
당사는 미국의 Oregon Physics사가 개발한 이온 빔 소스인 하이페리온II를 국내에 공급하고 있습니다
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- 0 to ±30kV
- Typically operates with Xenon, Argon, Neon,Helium or Oxygen
- Energy Normalized Brightness
+ ions : Xenon - 1x104Am-2sr-1V-1
Oxygen - 4x103Am-2sr-1V-1
Helium - 6.5x103Am-2sr-1V-1
- ions : Oxygen - 3x102Am-2sr-1V-1
-. Axial Energy Spread
+ ions : 5eV
- ions : 3.5eV
- Lifetime
> 2 years (+mode), >2000 hours (-mode)
- Stability
<1% drift/ hour, <5% drift/24 hours
전자 빔 소스
당사는 미국의 Oregon Physics사가 개발한 전자 빔 소스를 국내에 공급하고 있습니다
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제공되는 전자빔소스는 아래의 요구를 충족시킬 수 있습니다
-대면적에 균일하게 조사하기 위한 광각 주사
-나노사이즈 빔을 위해 소형 버츄얼 소스를 사용한 열전자 주사
-일반적이지 않은 공간 또는 진공 요건에서의 작동
-마이크로,나노 스케일의 엑스레이 소스
-전자 충돌 이온소스
-전자 빔 처리 장비
-전자 빔을 활용한 3D 프린팅
Plasma FIB : Prometheus
하이페리온II를 기반으로 당사가 개발한 고휘도 플라즈마 FIB '프로메테우스'는 기존의 LMIS FIB로는 구현이 어려운 빠른 밀링 속도, 음이온을이용한 유기물의 가공 등 가능하게 하는등 응용범위 확장을 목표로 현재 개발 중에 있습니다.
Brightness : 1.5 x 104 A/m2srV @ Xe
Beam Current >1000 nA
